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 ・ 高真空3源スパッタ装置

 3つのスパッタガンを備え、3ターゲットからの同時成膜が可能。
 到達真空度は1×10-8(Torr)以下。光電子分光装置と真空搬送路で接続されており、
作製した薄膜を大気中に暴露することなく光電子分光測定(UPS/XPS)が可能。