・ 高真空3源スパッタ装置
3つのスパッタガンを備え、3ターゲットからの同時成膜が可能。 到達真空度は1×10-8(Torr)以下。光電子分光装置と真空搬送路で接続されており、 作製した薄膜を大気中に暴露することなく光電子分光測定(UPS/XPS)が可能。