・ イオンビームスパッタ装置
金属薄膜(主にホイスラー合金等の磁性金属薄膜)の作製を行う為の装置 (8種類のターゲットを導入でき、磁気抵抗効果素子等作製の為の多層膜構造作製、 アシストイオン銃の利用により窒化物薄膜等の作製や、イオンビームアシストによる低温成長も可能)