● 学術雑誌論文
● 国際学会論文
● 招待・依頼講演
● 特許
● 受賞
- Direct atomistic observation of a contact process between crystalline silicon surfaces at room temperature
Tokushi Kizuka
Phys. Rev. B63, 033309-(1-4) (2001)
- シリコンの機械的破壊処理に関して原子直感的に解明した研究。
- Simultaneous Observation of
Millisecond Dynamics in Atomistic Structure, Force and Conductance on
the Basis of Transmission Electron Microscopy
Tokushi Kizuka, Hajime Ohmi, Takao Sumi, Katsuyoshi Kumazawa, Shunji Deguchi, Mikio
Naruse, Satoru Fujisawa, Shinya Sasaki, Akira Yabe and Yuji Enomoto
Jpn. J. Appl. Phys. 40, L170 - L173 (2001).
- A single vacancy chain and its bundle in magnesium oxide as line type lattice defects
Tokushi Kizuka and Masahiro Kawasaki
Jpn. J. Appl. Phys. 40, 428-429 (2001).
- 電子線照射法で、セラミックスを原子状に分解する研究について。
- Three-dimensional imaging of carbon nanotubes
Tokushi Kizuka, Takao Sumi, Satoshi Bansho and Toyofumi Saito
Jpn. J. Appl. Phys. 40, L56-L58 (2001).
- 人体に物理的な悪影響を及ぼすナノメートルサイズ廃棄物の3次元構造を再構成法によって解明した。
- Metal-insular transition in single atom gold chains
Tokushi Kizuka and Satoru Fujisawa
Jpn. J. Appl. Phys. 41,(2001) in print.
- 原子レベル電子デバイス廃棄物の強度と構造を調べ、通電処理の基礎過程について知見を得た。
- 金原子でできたネックレスは電気を通すか？
木塚徳志
パリティ （依頼解説）（2001）印刷中
- 原子レベル電子デバイスの強度と構造を原子直視的に調べ、機械処理の基礎過程の知見を得た研究について解説した。
- 回転軸位置が未知の2次元投映像の組からの3次元再構成手法とその電子顕微鏡像への応用
齊藤豊文、番正 聡、木塚徳志、鳥脇純一郎
第6回画像センシングシンポジウム講演論文集 (2000), p.79-84.
- 人体に物理的な悪影響を及ぼす微細な難処理人工物の3次元構造を再構成法によって解明した。主に手法についての報告。
- 3次元電子顕微鏡
木塚徳志 番正 聡、鷲見高雄、齊藤豊文
まてりあ（日本金属学会会報）39巻（2000）, p402
- 人体に物理的な悪影響を及ぼす微細人工物の3次元構造を再構成法によって解明した。主に手法についての報告。
- 孤立原子クラスターの変形と転移運動の原子直視観察
木塚徳志、細木和江、出口俊二、成瀬幹夫
まてりあ（日本金属学会会報）39 （2000）, p397
- 電子デバイス廃棄物内に残存する金微粒子の強度と機械的処理に関する知見を得た研究。
- 原子レベルで観た表面変形 −境界すべりと移動−
木塚徳志
表面科学(依頼）, (2000) 印刷中
- 機械的廃棄物処理による電子デバイス処理の基本的知見について解説した。
- 固体力学現象の原子挙動
木塚徳志
固体物理, 6巻（2000）, p383-392.
- 機械的廃棄物処理によるナノ材料や電子デバイス処理の基本的知見について解説した。
- 固体凝着現象の原子直視観察
木塚徳志
日本溶接学会誌、69巻 (2000), p58-61
- 切削、破壊等の機械的処理によるナノ材料や電子デバイスの基本的知見について解説した。
- Recovery of Copper from Cu2-Based Slag Used for Copper Scrap recycling
H.Sano, H.Mouri, M.Tanahashi,T.Fujisawa, C.Yamauchi
James M. Toguri Symposium on the Fundamentals of Metallurgical Processing, Aug. 20-23, Ottawa, Canada, pp.405-413, (2000)
- 酸化銅基スラグを利用した銅スクラップのリサイクルプロセス確立のため、使用済み酸化銅基スラグからの銅の回収への還元法と硫化物化法の適用性を検討し、リサイクルプロセスへ、あるいは製錬所へ戻し、回収可能であることを示した。
- Thermodynamic Consideration for the Production of Cu-Be Alloys
M.Tanahashi, G.R.F. Alvear F., T. Iwadachi, T. Fujisawa, C. Yamauchi
MINPREX2000, Sept. 11-13, Melbourne, Australia, pp.427-432, (2000)
- Cu-Be合金の品質に影響を及ぼす、製造時におけるベリリウムの炭化物および酸化物の生成抑制のための基礎的知見として、Cu-Be-C-O系の熱力学について実験により検討した。
- Solid State Electrotransport of Oxygen in Praseodymium
H. Sano, J. Sugiyama, H. Takeuchi, T. Fujisawa, C. Yamauchi
Second International Conference on Processing Materials for Properties (PMP2000) , Nov.5-8,
San Francisco, U.S.A., pp. 921-924, (2000)
- プラセオジム中の酸素の除去に固相エレクトロトランスポート法を適用し、種々の条件においてエレクトロトランスポート特性値を測定することにより、最適な操作条件について検討した。また、本法を利用して酸素溶解度も測定した。
- Elimination of Nickel from Copper Scrap Melt
H. Sano, S. Iwahori, M. Tanahashi, T. Fujisawa, C. Yamauchi
Second International Conference on Processing Materials for Properties (PMP2000) , Nov.5-8,
San Francisco, U.S.A., pp. 677-680, (2000)
- 銅スクラップのリサイクルプロセスを確立するためには、酸化銅基スラグによる除去が困難なニッケルの除去法の開発が不可欠である。銅濃縮工程におけるニッケルの分配挙動を検討し、純度4Nの再生銅を得るための最適条件について検討した。
- Oxidation Behavior of Molten Cu-Be Alloys
M. Tanahashi, J. Miura, T. Iwadachi, T. Fujisawa, C. Yamauchi
Second International Conference on Processing Materials for Properties (PMP2000) , Nov.5-8,
San Francisco, U.S.A., pp. 57-62, (2000)
- Cu-Be合金の品質に影響を及ぼす、製造時におけるベリリウム酸化物の生成抑制のための基礎的知見として、Cu-Be合金の酸化挙動について、種々の酸素分圧下において実験することにより検討した。
- Phase Equilibria of the MnO-Si02-CrOx System
M. Tanahashi, N Furuta, T. Taniguchi, T. Fujisawa, C. Yamauchi
Second International Conference on Processing Materials for Properties (PMP2000) , Nov.5-8,
San Francisco, U.S.A., pp. 645-48, (2000)
- ステンレス鋼中の非金属介在物の制御に不可欠な、非金属介在物の系であるMnO-SiO2-CrOx 系の1873Kにおける状態図を作成した。
- Behavior of Components in
Dust and Exhaust Gas from Sealed Steelmaking Electric
Furnace-Development of Direct Recovery System of Valuable Metals-
H. Sano, T. Yamauchi, A. Nishimoto, T. Fujisawa
Proc. of International Symposium on Advanced Waste and Emission Management ( ResCWE2000), Nagoya, Japan, pp.25-26, (2000)
- 省エネルギー型金属ダスト回収技術の開発のための基礎的知見として、密閉型製鋼電気炉からの排ガスならびにダスト中の各成分の挙動について、実炉ダストの還元実験を行うことにより検討した。
- 超微粒子の変形 −電子顕微鏡観察−
木塚徳志
2000.10.20 日本学術振興会 材料の微細組織と機能性133委員会、第167回研究会講演
学士会館 東京
- 廃棄電子デバイス内に残存する金微粒子の強度と機械的処理に関する研究についての講演。
- In-situ electron microscopy of boundary motion in deformation
Tokushi Kizuka
2000.11 Japan-USA seminar "In-situ Electron Microscopy for Creation of
Advanced Materials" （日本学術振興会日米セミナー「先端/次世代材料の創製に対する電子顕微鏡内その場実験の貢献」）京都
- 電子顕微鏡を用いた廃棄電子デバイス内に残存する金微粒子の強度と機械的処理に関する研究についての講演。
- 変形・破壊の原子直視観察
木塚徳志
200.10.2 日本金属学会 シンポジウム基調講演「材料破壊におけるスケール問題−巨視的/微視的研究成果の融合を目指して」名大
- 電子顕微鏡を用いた構造材料廃棄物の強度と機械的処理に関する研究についての講演。
- ナノ接合の原子ダイナミクスと電気伝導
木塚徳志
2000.9.23 日本物理学会 領域9 （結晶成長・表面界面分科）シンポジウム、ナノ接合と量子コンダクタンス、新潟大
- 原子レベル電子デバイスの強度と構造を調べ、通電処理の基礎過程について講演した。
- 点接触境界の原子挙動と電気伝導
木塚徳志
2000.3.6 日本電子顕微鏡学会ニューマイクロスコピー分科会、名古屋
- 原子レベル電子デバイスの強度と構造を調べ、通電処理の基礎過程について講演した。
- Atomistic formation process and electric conductance of Au/Au point-contact boundaries
Tokushi Kizuka and Satoru Fujisawa
2000.3.14-15
The SANKEN Int. Symp. Advanced Nanorlrctronics: Devices, Materials and
Computing, The Institute of Science and Industrial Research, Osaka
- 金属でできた原子レベル電子デバイスの強度と構造を調べ、通電処理の基礎過程について講演した。
- Atomistic formation process of Si/Si tunnel junctions and Si/Au/Si quantum dots by mechanical contact
Tokushi Kizuka and Satoru Fujisawa
2000.3.14-15
The SANKEN Int. Symp. Advanced Nanorlrctronics: Devices, Materials and
Computing, The Institute of Science and Industrial Research, Osaka
- 半導体でできた原子レベル電子デバイスの強度と構造を調べ、機械的処理の基礎過程について講演した。
- 半導体原子を見ながら探る −表面構造制御と接合−
木塚徳志
2000.3.24 日本物理学会半導体シンポジウム
- 半導体でできた原子レベル電子デバイスの強度と構造を調べ、機械的処理の基礎過程について講演した。
- 接触・変形・破断の原子直視観察
木塚徳志
2000.5.17 日本電子顕微鏡学会シンポジウム
- 機械的廃棄物処理の原子過程について講演した。
- 原子を見て探る
木塚徳志
2000.3.9 矢崎学術賞受賞講演、東京、芝公園
- 機械的廃棄物処理の原子過程について講演した。
- 高純度金属Siの製造方法及びこれに用いる製造装置 (特願 2000-80471)
山内睦文、藤澤敏治、棚橋 満、森 広司、坂田雅史
- 金属シリコンから不純物のB,Cを短時間に効率よく除去できる高純度シリコンの製造方法と、これに用いられ且つ装置構成が容易で簡便な高純度金属シリコンの製造装置を提供する。
- サー・マーティン・ウッド賞（2000年）
木塚徳志
- 原子直視的な固体材料破壊研究と処理について研究者個人に与えられた。
- 矢崎学術奨励賞 (個人、2000年）
木塚徳志
- 原子直視的な固体材料破壊研究と処理について研究者個人に与えられた。
- International Metallographic Contest, 1-st (2000) in Class in Electron Microscopy-Transmission and Analytical
- T. Kizuka, K. Hosoki, S. Deguchi and M. Naruse
(The International Metallographic Society and ASM International)
"Mechanical Deformation of Isolated Gold Clusters"
(Materials Characterization, Slip Lines, and Advanced Materials & Processes, 2000)
- International Metallographic Contest, 3-rd (2000) in Class in Unique, Unusual, and New Techniques in Microscopy
- T. Kizuka, S. Bansho, T. Sumi, and T. Saito
(The International Metallographic Society and ASM International)
"Atomistic Processes of Si/Si direct bonding at room temperature"
(Materials Characterization, Slip Lines, and Advanced Materials & Processes, 2000)
- 日本金属学会組織写真佳作賞（学術部門、2位）2000年度
『原子クラスターの変形と転移運動の原子直視観察』
木塚徳志、細木和江、出口俊二、成瀬幹夫
- 廃棄電子デバイス内に残存する金属粒子の強度と機械的処理に関する知見を得た研究で観察した電子顕微鏡写真について受賞。
- 日本金属学会組織写真佳作賞（学術部門、2位）2000年度
『3次元電子顕微鏡法』
木塚徳志、番正聡、鷲見高雄、齊藤豊文
- 人的に物理的な悪影響を及ぼす微細人工物の3次元構造を再構成法によって解明した。主に手法開発について受賞。